Перейти на страницу файла на Викискладе

Файл:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Перейти к навигации Перейти к поиску

Исходный файл(713 × 605 пкс, размер файла: 80 КБ, MIME-тип: image/jpeg)

Описание
English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.
Дата
Источник Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.
Автор Lawrence Livermore National Laboratory
Права
(Повторное использование этого файла)
Public domain Это произведение является работой, выполненой должностным лицом или наемным работником Министерства энергетики США (или организации-предшественника), в качестве части служебных обязанностей этого лица. Как работа Федерального правительства США, это произведение находится в общественном достоянии в США.

Обратите внимание, что Национальные лаборатории Министерства энергетики США работают под разными лицензиями, некоторые из которых являются несвободными. Проверьте политику авторских прав лаборатории перед тем, как использовать этот шаблон для изображения созданного лабораторией.


العربية  English  français  日本語  македонски  മലയാളം  Nederlands  русский  українська  Tiếng Việt  简体中文  繁體中文  +/−

Краткие подписи

Добавьте однострочное описание того, что собой представляет этот файл

Элементы, изображённые на этом файле

изображённый объект

История файла

Нажмите на дату/время, чтобы посмотреть файл, который был загружен в тот момент.

Дата/времяМиниатюраРазмерыУчастникПримечание
текущий18:19, 22 сентября 2011Миниатюра для версии от 18:19, 22 сентября 2011713 × 605 (80 КБ)Bomazi{{Information |Description ={{en|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} |Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio.

Следующая страница использует этот файл:

Глобальное использование файла

Данный файл используется в следующих вики:

Метаданные